당사의 기존 사업을 기반으로 하는 차세대 반도체 및 디스플레이 핵심 소재 기술 개발을 진행하고 있으며, 화학 소재 재활용 기술 개발 및 해외 의존 소재의 국산화 연구개발 등을 통하여 고객의 요구와 사회에 기여할 수 있는 결과를 얻기 위하여 끊임없이 노력하고 있습니다.
당사는 기존에 확보하고 있는 염소계 가스(Cl2, HCl) 제품을 기반으로, 반도체 및 디스플레이 산업에 적합한 고순도 화학 소재를 개발하고 있습니다. 축적된 기술력을 바탕으로, 최적화 연구를 통해 고부가가치 소재로의 확장을 지속하고 있습니다.
차세대 반도체 및 디스플레이 핵심 공정에 필수적인 고순도 식각 및 세정 소재를 연구·개발하고 있습니다. 미세화가 가속화되는 고성능 반도체 · 디스플레이 공정에서 식각(Etching) 및 세정(Cleaning)은 공정의 정밀도와 수율을 결정짓는 핵심 단계입니다. 이러한 공정 단계에서 요구되는 특성이 다른 신규 소재를 자체 기술로 설계하고 있으며, 안정성과 정밀한 조성을 바탕으로 고객의 공정 최적화를 지원합니다.
차세대 고성능 반도체 및 디스플레이 제조 기술에 대응하기 위해, 당사는 고성능 증착 공정 소재를 독자적으로 개발하고 있습니다. CVD, ALD 등 박막 증착 공정에 최적화된 증착 공정 소재는 박막의 균일도와 반응성을 결정짓는 핵심 소재입니다.
반도체 및 디스플레이 제조 과정에서 발생하는 공정 부산물의 재생 및 정제 기술을 개발하고 있습니다. 이를 통해 환경 부담을 최소화하고, 자원 순환형 생산 체계 구축에 기여하며 지속 가능한 전자 소재 생태계를 만들어갑니다.
